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HMDS涂胶机的工作流程

 发布时间:2019-04-24 点击:载入中。。。

HMDS涂胶机的工作流程
    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,因此涂胶工艺也尤为重要。

 一、HMDS涂布烤箱的原理

    HMDS涂布烤箱通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

真萍科技HMDS烤箱


 二、HMDS涂布烤箱的一般工作流程:

  1、首先设定烘箱工作温度

  2、然后打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一真空度后

  3、开始充入氮气,充到达到某一低真空度后

  4、再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后

  5、开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分

  6、然后再次开始抽真空,加热HMDS管道

  7、充入HMDS气体到达设定时间后,停止充入HMDS药液

  8、三面加热箱体使温度达到150度左右

  9、进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应

  10、当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空

  11、充入氮气,完成整个作业过程

真萍科技HMDS烤箱


*文章仅作为个人观点,不作为具体技术参考。具体细节请咨询技术人员。
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